이날 ‘V1 라인’을 방문한 이 부회장은 해당 사업장이 세계 1등의 첫 단추가 될 것이라고 밝혔다. 그는 “작년에 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었다”며 “오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다”고 말했다. 이어 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 격려했다.
이번 행보는 지난해 삼성전자가 선언한 ‘시스템 반도체 초격차’의 중간점검으로 해석된다. 앞서 삼성전자는 작년 4월 반도체 비전 2030을 발표하고 시스템반도체에 133조원 투자 및 1만5000명 채용, 생태계 육성 지원방안 등을 밝힌 바 있다.
실제 삼성전자는 최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로 설계) 기업과 협력을 지속 추진 중이다. 모바일부터 HPC(High Performance Computing) 분야까지 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다.
2019년 4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 SoC 제품을 출하한 데 이어, 같은 해 하반기부터는 6나노 제품 양산을 시작했다. 5나노 공정은 작년 말 제품 설계를 완료했으며, 4나노 공정은 2020년 상반기 공정 개발을 완료하고 하반기에 제품 설계도 마칠 계획이다.
그 중에서 ‘V1 라인’은 5G·AI·자율주행 등 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산의 핵심기지다. 이곳에 대한 올해 누적 투자 금액은 약 60억불(7조원 가량) 수준이며, 올해 말 생산량은 2019년 대비 약 3배 이상 확대를 목표로 하고 있다.
삼성전자 관계자는 “반도체 미래를 이끌 최첨단 EUV 전용 라인인 ‘V1 라인’은 반도체 비전 2030 달성에 주요 역할을 할 것”이라고 말했다.
주현웅 기자 chesco12@hankooki.com